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單面耐電暈的聚酰亞胺復(fù)合薄膜及其制備方法

813   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 17:12:20
本發(fā)明涉及一種單面耐電暈的聚酰亞胺復(fù)合薄膜及其制備方法,屬于電機(jī)電氣絕緣技術(shù)領(lǐng)域。該薄膜包括上下兩層,上層為復(fù)合材料層,下層為聚酰亞胺基膜層,該復(fù)合材料層包括聚酰亞胺基體和表面改性后的納米三氧化二鋁。本發(fā)明涉及的薄膜以高性能的純聚酰亞胺薄膜為基膜能夠確保復(fù)合薄膜具有優(yōu)異的機(jī)械性能,對基膜進(jìn)行電暈處理以期提高界面相容性,利用新型偶聯(lián)劑增加三氧化二鋁在聚合物基體中分散性,并能有效地提高摻雜劑量,并能有效地提高耐電暈特性;所制備的雙層復(fù)合膜兼?zhèn)淞烁吣碗姇炐阅芎透邫C(jī)械性能特性,能夠作為高性能單面耐電暈薄膜材料廣泛使用。
聲明:
“單面耐電暈的聚酰亞胺復(fù)合薄膜及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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