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編輯：中冶有色技術(shù)網(wǎng)
來源：華建彬
權(quán)利要求
1.銅礦萃取電積生產(chǎn)工藝用原料配制裝置，其特征在于，包括原料配制裝置本體(1)、頂部電機(2)、轉(zhuǎn)動軸(3)、帶動環(huán)(4)、皮帶(5)、萃取軸(6)、電機軸(7)、萃取劑室(8)、萃取劑入口(9)、防震板(10)、反萃劑室(11)、反萃劑入口(12)、第一排液口(13)、萃取室(14)、萃取劑排放口(15)、電磁閥(16)、聯(lián)軸器(17)、電積室(18)、第二排液口(19)、反萃劑排放口(20)、卸料口(21)、底部電機(22)、底部轉(zhuǎn)動軸(23)、底部帶動環(huán)(24)、底部皮帶(25)、彈簧(26)、夾緊塊(27)、底軸(181)和頂軸(141)；
所述頂部電機(2)設(shè)于原料配制裝置本體(1)頂部，所述轉(zhuǎn)動軸(3)設(shè)于頂部電機(2)底部，所述帶動環(huán)(4)設(shè)于轉(zhuǎn)動軸(3)外壁，所述皮帶(5)設(shè)于帶動環(huán)(4)外壁，所述萃取軸(6)設(shè)于頂部電機(2)左側(cè)，所述電機軸(7)設(shè)于頂部電機(2)右側(cè)，所述萃取劑室(8)設(shè)于頂部電機(2)底部，所述萃取劑入口(9)設(shè)于萃取劑室(8)頂部，所述防震板(10)設(shè)于萃取劑室(8)右側(cè)，所述反萃劑室(11)設(shè)于防震板(10)右側(cè)，所述反萃劑入口(12)設(shè)于反萃劑室(11)頂部，所述第一排液口(13)設(shè)于萃取劑室(8)底部，所述萃取室(14)設(shè)于萃取劑室(8)底部，所述萃取劑排放口(15)設(shè)于萃取室(14)左側(cè)外壁，所述電磁閥(16)設(shè)于萃取室(14)底部，所述聯(lián)軸器(17)設(shè)于電磁閥(16)兩側(cè)，所述電積室(18)設(shè)于萃取室(14)底部，所述第二排液口(19)設(shè)于反萃劑室(11)底部，所述電積室(18)和反萃劑室(11)通過第二排液口(19)連接，所述反萃劑排放口(20)設(shè)于電積室(18)左側(cè)外壁，所述卸料口(21)設(shè)于電積室(18)右側(cè)外壁，所述底部電機(22)設(shè)于電積室(18)底部，所述底部轉(zhuǎn)動軸(23)設(shè)于底部電機(22)底部，所述底部帶動環(huán)(24)設(shè)于底部轉(zhuǎn)動軸(23)外壁，所述底部皮帶(25)設(shè)于底部帶動環(huán)(24)外壁，所述底軸(181)設(shè)于聯(lián)軸器(17)底部，所述頂軸(141)設(shè)于聯(lián)軸器(17)頂部，所述底軸(181)與頂軸(141)通過聯(lián)軸器(17)連接，所述彈簧(26)設(shè)于防震板(10)內(nèi)部，所述夾緊塊(27)設(shè)于底軸(181)頂部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅礦萃取電積生產(chǎn)工藝用原料配制裝置，其特征在于，所述頂軸(141)底部開設(shè)有與夾緊塊(27)相配式的凹槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅礦萃取電積生產(chǎn)工藝用原料配制裝置，其特征在于，所述萃取軸(6)和電機軸(7)外壁均設(shè)有若干攪拌桿。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅礦萃取電積生產(chǎn)工藝用原料配制裝置，其特征在于，所述防震板(10)內(nèi)部開設(shè)有與(28)相配式的槽口。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅礦萃取電積生產(chǎn)工藝用原料配制裝置，其特征在于，所述第一排液口(13)和第二排液口(19)為耐酸、耐腐材料制成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅礦萃取電積生產(chǎn)工藝用原料配制裝置，其特征在于，所述底軸(181)和頂軸(141)數(shù)量均為兩個，呈180°連接。
說明書
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及原料配制裝置技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種銅礦萃取電積生產(chǎn)工藝用原料配制裝置。
背景技術(shù)
銅在地殼中主要以化合物形態(tài)存在，自然界中的含銅礦物有200多種，常見的銅礦物可分為自然銅、硫化礦和氧化礦三種類型。自然銅在自然界中很少，主要是硫化礦和氧化礦。硫化礦分布最廣，是主要的煉銅原料。銅的硫化礦中分布依次為黃銅礦、斑銅礦、輝銅礦。銅的氧化礦，以孔雀石分布最廣。硫化銅礦石中，除了銅的硫化礦物外，還有黃鐵礦、閃鋅礦、方鉛礦、鎳黃鐵礦等。氧化銅礦石中，常見的其他金屬礦物有褐鐵礦、赤鐵礦和菱鐵礦等。銅礦石中的脈石，主要為石英，其次為方解石、長石、云母、綠泥石、重晶石等。
銅礦的有效處理工藝之一是“萃取-電積”，現(xiàn)在技術(shù)中心的萃取電積原料配制裝置混合不均勻，導(dǎo)致煉銅效率低下，而且不同萃取劑排放不分類，造成了極大的環(huán)境污染。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的在于提供銅礦萃取電積生產(chǎn)工藝用原料配制裝置，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。
為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案：一種銅礦萃取電積生產(chǎn)工藝用原料配制裝置，包括原料配制裝置本體、頂部電機、轉(zhuǎn)動軸、帶動環(huán)、皮帶、萃取軸、電機軸、萃取劑室、萃取劑入口、防震板、反萃劑室、反萃劑入口、第一排液口、萃取室、萃取劑排放口、電磁閥、聯(lián)軸器、電積室、第二排液口、反萃劑排放口、卸料口、底部電機、底部轉(zhuǎn)動軸、底部帶動環(huán)、底部皮帶、彈簧、夾緊塊、底軸和頂軸；
所述頂部電機設(shè)于原料配制裝置本體頂部，所述轉(zhuǎn)動軸設(shè)于頂部電機底部，所述帶動環(huán)設(shè)于轉(zhuǎn)動軸外壁，所述皮帶設(shè)于帶動環(huán)外壁，所述萃取軸設(shè)于頂部電機左側(cè)，所述電機軸設(shè)于頂部電機右側(cè)，所述萃取劑室設(shè)于頂部電機底部，所述萃取劑入口設(shè)于萃取劑室頂部，所述防震板設(shè)于萃取劑室右側(cè)，所述反萃劑室設(shè)于防震板右側(cè)，所述反萃劑入口設(shè)于反萃劑室頂部，所述第一排液口設(shè)于萃取劑室底部，所述萃取室設(shè)于萃取劑室底部，所述萃取劑排放口設(shè)于萃取室左側(cè)外壁，所述電磁閥設(shè)于萃取室底部，所述聯(lián)軸器設(shè)于電磁閥兩側(cè)，所述電積室設(shè)于萃取室底部，所述第二排液口設(shè)于反萃劑室底部，所述電積室和反萃劑室通過第二排液口連接，所述反萃劑排放口設(shè)于電積室左側(cè)外壁，所述卸料口設(shè)于電積室右側(cè)外壁，所述底部電機設(shè)于電積室底部，所述底部轉(zhuǎn)動軸設(shè)于底部電機底部，所述底部帶動環(huán)設(shè)于底部轉(zhuǎn)動軸外壁，所述底部皮帶設(shè)于底部帶動環(huán)外壁，所述底軸設(shè)于聯(lián)軸器底部，所述頂軸設(shè)于聯(lián)軸器頂部，所述底軸與頂軸通過聯(lián)軸器連接，所述彈簧設(shè)于防震板內(nèi)部，所述夾緊塊設(shè)于底軸頂部。
在一優(yōu)選的實施方式中：頂軸底部開設(shè)有與夾緊塊相配式的凹槽。
在一優(yōu)選的實施方式中：萃取軸和電機軸外壁均設(shè)有若干攪拌桿。
在一優(yōu)選的實施方式中：防震板內(nèi)部開設(shè)有與相配式的槽口。
在一優(yōu)選的實施方式中：第一排液口和第二排液口為耐酸、耐腐材料制成。
在一優(yōu)選的實施方式中：底軸和頂軸數(shù)量均為兩個，呈180°連接。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是：
1、該銅礦萃取電積生產(chǎn)工藝用原料配制裝置，通過打開第一排液口使萃取劑進入萃取室，進行萃取，通過萃取劑排放口排放萃取劑，萃取完成后的無物料通過電磁閥進入電積室，打開第二排液口，使反萃劑進入電積室，對物料進行反萃，通過反萃劑排放口排出反萃劑，對不同萃取劑分類排放，便于收集，防止環(huán)境污染。
2、該銅礦萃取電積生產(chǎn)工藝用原料配制裝置，通過將萃取劑通過萃取劑入口放入萃取劑室，將反萃劑通過反萃劑入口放入反萃劑室，啟動頂部電機，通過頂部電機帶動轉(zhuǎn)動軸轉(zhuǎn)動，帶動軸帶動皮帶轉(zhuǎn)動，皮帶帶動萃取軸和電積軸轉(zhuǎn)動，攪拌萃取劑和反萃劑，使其增強其效果。
3、該銅礦萃取電積生產(chǎn)工藝用原料配制裝置，通過啟動底部電機，帶動底部轉(zhuǎn)動軸轉(zhuǎn)動，底部轉(zhuǎn)動軸帶動底部皮帶轉(zhuǎn)動，使底軸和頂軸同時轉(zhuǎn)動，使混合更加均勻，提高萃取效率，當萃取完畢時，使夾緊塊伸縮，使底軸轉(zhuǎn)動，頂軸停止轉(zhuǎn)動，減少能源消耗。
附圖說明
圖1為一種銅礦萃取電積生產(chǎn)工藝用原料配制裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為一種銅礦萃取電積生產(chǎn)工藝用原料配制裝置中防震板的剖面圖。
圖3為一種銅礦萃取電積生產(chǎn)工藝用原料配制裝置中聯(lián)軸器的剖面圖。
圖中：原料配制裝置本體1、頂部電機2、轉(zhuǎn)動軸3、帶動環(huán)4、皮帶5、萃取軸6、電積軸7、萃取劑室8、萃取劑入口9、防震板10、反萃劑室11、反萃劑入口12、第一排液口13、萃取室14、萃取劑排放口15、電磁閥16、聯(lián)軸器17、電積室18、第二排液口19、反萃劑排放口20、卸料口21、底部電機22、底部轉(zhuǎn)動軸23、底部帶動環(huán)24、底部皮帶25、彈簧26、夾緊塊27、底軸181、頂軸141。
具體實施方式
下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
請參閱圖1～3，本實用新型實施例中，一種銅礦萃取電積生產(chǎn)工藝用原料配制裝置，包括原料配制裝置本體1、頂部電機2、轉(zhuǎn)動軸3、帶動環(huán)4、皮帶5、萃取軸6、電機軸7、萃取劑室8、萃取劑入口9、防震板10、反萃劑室11、反萃劑入口12、第一排液口13、萃取室14、萃取劑排放口15、電磁閥16、聯(lián)軸器17、電積室18、第二排液口 19、反萃劑排放口20、卸料口21、底部電機22、底部轉(zhuǎn)動軸23、底部帶動環(huán)24、底部皮帶25、彈簧26、夾緊塊27、底軸181和頂軸141；
其中，頂部電機2設(shè)于原料配制裝置本體1頂部，轉(zhuǎn)動軸3設(shè)于頂部電機2底部，帶動環(huán)4設(shè)于轉(zhuǎn)動軸3外壁，皮帶5設(shè)于帶動環(huán)4外壁，萃取軸6設(shè)于頂部電機2左側(cè)，電機軸7設(shè)于頂部電機2右側(cè)，萃取軸6和電機軸7外壁均設(shè)有若干攪拌桿，萃取劑室8設(shè)于頂部電機2底部，萃取劑入口9設(shè)于萃取劑室8頂部，防震板10設(shè)于萃取劑室8右側(cè)，防震板10內(nèi)部開設(shè)有與28相配式的槽口，反萃劑室11設(shè)于防震板10右側(cè)，反萃劑入口12 設(shè)于反萃劑室11頂部，第一排液口13設(shè)于萃取劑室8底部，萃取室14設(shè)于萃取劑室8 底部，萃取劑排放口15設(shè)于萃取室14左側(cè)外壁，電磁閥16設(shè)于萃取室14底部，聯(lián)軸器 17設(shè)于電磁閥16兩側(cè)，電積室18設(shè)于萃取室14底部，第二排液口19設(shè)于反萃劑室11 底部，第一排液口13和第二排液口19為耐酸、耐腐材料制成，電積室18和反萃劑室11 通過第二排液口19連接，反萃劑排放口20設(shè)于電積室18左側(cè)外壁，卸料口21設(shè)于電積室18右側(cè)外壁，底部電機22設(shè)于電積室18底部，底部轉(zhuǎn)動軸23設(shè)于底部電機22底部，底部帶動環(huán)24設(shè)于底部轉(zhuǎn)動軸23外壁，底部皮帶25設(shè)于底部帶動環(huán)24外壁，底軸181 設(shè)于聯(lián)軸器17底部，頂軸141設(shè)于聯(lián)軸器17頂部，頂軸141底部開設(shè)有與夾緊塊27相配式的凹槽，底軸181與頂軸141通過聯(lián)軸器17連接，底軸181和頂軸141數(shù)量均為兩個，呈180°連接，彈簧26設(shè)于防震板10內(nèi)部，夾緊塊27設(shè)于底軸181頂部。
本實用新型的工作原理是：將萃取劑通過萃取劑入口9放入萃取劑室8，將反萃劑通過反萃劑入口12放入反萃劑室11，啟動頂部電機2，通過頂部電機2帶動轉(zhuǎn)動軸3轉(zhuǎn)動，帶動軸3帶動皮帶5轉(zhuǎn)動，皮帶5帶動萃取軸6和電積軸7轉(zhuǎn)動，攪拌萃取劑和反萃劑，使其增強其效果，打開第一排液口13使萃取劑進入萃取室14，進行萃取，通過萃取劑排放口15排放萃取劑，萃取完成后的無物料通過電磁閥16進入電積室18，打開第二排液口 19，使反萃劑進入電積室18，對物料進行反萃，通過反萃劑排放口20排出反萃劑，對不同萃取劑分類排放，便于收集，防止環(huán)境污染，啟動底部電機22，帶動底部轉(zhuǎn)動軸24轉(zhuǎn)動，底部轉(zhuǎn)動軸24帶動底部皮帶25轉(zhuǎn)動，使底軸181和頂軸141同時轉(zhuǎn)動，使混合更加均勻，提高萃取效率，當萃取完畢時，使夾緊塊27伸縮，使底軸181轉(zhuǎn)動，頂軸141停止轉(zhuǎn)動，減少能源消耗。
盡管參照前述實施例對本實用新型進行了詳細的說明，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，其依然可以對前述各實施例所記載的技術(shù)方案進行修改，或者對其中部分技術(shù)特征進行等同替換，凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
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