337p粉嫩大胆噜噜噜,亚洲中文在线,A片人善杂交在线视频

合肥金星智控科技股份有限公司
宣傳

位置:中冶有色 >

有色技術(shù)頻道 >

> 選礦技術(shù)

> 硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置及硅片分選機(jī)

硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置及硅片分選機(jī)

880   編輯:中冶有色技術(shù)網(wǎng)   來源:無錫奧特維科技股份有限公司  
2024-06-05 15:52:35
權(quán)利要求書: 1.一種硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,其特征在于,所述硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置包括第一檢測(cè)單元和第二檢測(cè)單元,所述第一檢測(cè)單元和所述第二檢測(cè)單元結(jié)構(gòu)相同,分別用于檢測(cè)硅片的相互平行的兩個(gè)側(cè)邊;

所述第一檢測(cè)單元和所述第二檢測(cè)單元均包括側(cè)邊檢測(cè)組件,所述側(cè)邊檢測(cè)組件包括第一點(diǎn)光源、第一光路限定元件和相機(jī),所述第一光路限定元件包括反光面和狹縫,所述反光面用于反射由所述第一點(diǎn)光源發(fā)出的光,并將所述第一點(diǎn)光源發(fā)出的光反射到待檢測(cè)硅片的側(cè)邊,所述光被所述待檢測(cè)硅片的側(cè)邊反射并穿過所述狹縫進(jìn)入所述相機(jī)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,其特征在于,所述相機(jī)與所述第一光路限定元件共線設(shè)置,且所述相機(jī)的光軸與所述狹縫對(duì)應(yīng);所述第一點(diǎn)光源設(shè)置在所述反光面的正上方。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,其特征在于,所述第一光路限定元件還包括第一安裝座,所述第一安裝座呈直角三棱柱狀,所述反光面固定在所述第一安裝座的斜面上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,其特征在于,所述反光面包括第一反光面和第二反光面,所述第一反光面和所述第二反光面對(duì)稱固定在所述狹縫的兩側(cè)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,其特征在于,所述第一光路限定元件的內(nèi)腔為經(jīng)過黑化處理的內(nèi)腔,所述內(nèi)腔包括所述狹縫的內(nèi)壁和/或反光面的背面。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,其特征在于,所述第一檢測(cè)單元和所述第二檢測(cè)單元還均包括第一倒角檢測(cè)組件和第二倒角檢測(cè)組件,所述第一倒角檢測(cè)組件和第二倒角檢測(cè)組件結(jié)構(gòu)相同,且相對(duì)所述側(cè)邊檢測(cè)組件對(duì)稱設(shè)置;

所述第一倒角檢測(cè)組件和所述第二倒角檢測(cè)組件均包括第二光路限定元件,所述第二光路限定元件包括第二安裝座、第三反光面、第四反光面和通道,所述通道設(shè)置在所述第二安裝座上,用于為所述待檢測(cè)硅片提供輸送通道,所述第三反光面和所述第四反光面分別固定設(shè)置在所述通道兩側(cè)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,其特征在于,所述第一倒角檢測(cè)組件和所述第二倒角檢測(cè)組件還均包括第二點(diǎn)光源,所述第三反光面和所述第四反光面用于反射由所述第二點(diǎn)光源發(fā)出的光,并將所述光反射至所述待檢測(cè)硅片的倒角,所述光被所述待檢測(cè)硅片的倒角反射并穿過所述狹縫進(jìn)入所述相機(jī)。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,其特征在于,所述第二安裝座呈直角三棱柱狀,所述第三反光面和所述第四反光面固定設(shè)置在所述第二安裝座的斜面上。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,其特征在于,所述通道為自所述第二安裝座的斜面水平向所述第二安裝座內(nèi)部延伸的盲槽或通槽。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,其特征在于,所述第一檢測(cè)單元和所述第二檢測(cè)單元均可以朝向或遠(yuǎn)離所述待檢測(cè)硅片調(diào)節(jié)。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,其特征在于,所述第一檢測(cè)單元和所述第二檢測(cè)單元分別對(duì)應(yīng)所述待檢測(cè)硅片的相互平行的兩個(gè)側(cè)邊設(shè)置,且沿所述側(cè)邊的延伸方向交錯(cuò)分布。

12.一種硅片分選機(jī),其特征在于,所述硅片分選機(jī)包括如權(quán)利要求1?11任意一項(xiàng)所述的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置和規(guī)整裝置,所述規(guī)整裝置位于所述硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置的前道,用于對(duì)進(jìn)入所述硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置的待檢測(cè)硅片進(jìn)行預(yù)規(guī)整。

說明書: 一種硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置及硅片分選機(jī)技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本申請(qǐng)屬于硅片分選領(lǐng)域,具體地說,涉及一種硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置及硅片分選機(jī)。背景技術(shù)[0002] 在將硅片制成電池片之前,需要對(duì)硅片進(jìn)行一系列缺陷檢測(cè),其中有一項(xiàng)檢測(cè),需要對(duì)硅片的側(cè)邊進(jìn)行檢測(cè)。[0003] 現(xiàn)有的檢測(cè)方式,多采用方棱鏡對(duì)光源進(jìn)行反射或透射,經(jīng)方棱鏡透射后的光線,會(huì)有部分被方棱鏡底部再次反射上去,導(dǎo)致拍攝背景過亮,影響成像效果,進(jìn)而給側(cè)邊檢測(cè)帶來干擾。發(fā)明內(nèi)容[0004] 針對(duì)當(dāng)前側(cè)邊檢測(cè)采用方棱鏡影響成像效果的問題,本申請(qǐng)?zhí)岢隽艘环N硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置及硅片分選機(jī)。[0005] 第一方面,本申請(qǐng)?zhí)岢隽艘环N硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,包括第一檢測(cè)單元和第二檢測(cè)單元,第一檢測(cè)單元和第二檢測(cè)單元結(jié)構(gòu)相同,分別用于檢測(cè)硅片的相互平行的兩個(gè)側(cè)邊;[0006] 第一檢測(cè)單元和第二檢測(cè)單元均包括側(cè)邊檢測(cè)組件,側(cè)邊檢測(cè)組件包括第一點(diǎn)光源、第一光路限定元件和相機(jī),第一光路限定元件包括反光面和狹縫,反光面用于反射由第一點(diǎn)光源發(fā)出的光,并將光反射到待檢測(cè)硅片的側(cè)邊,光被待檢測(cè)硅片的側(cè)邊反射并穿過狹縫進(jìn)入相機(jī)。[0007] 通過采用第一光路限定元件的反光面反射第一電光源發(fā)出的光,并將光反射到待檢測(cè)硅片的側(cè)邊,采用第一光路限定元件的狹縫接收由待檢測(cè)硅片的側(cè)邊反射回來的光,使被待檢測(cè)硅片的側(cè)邊反射的光穿過狹縫進(jìn)入相機(jī),實(shí)現(xiàn)對(duì)硅片側(cè)邊的拍照檢測(cè),不僅克服了現(xiàn)有方棱鏡影響成像效果的問題,提高了成像效果;而且第一光路限定元件的安裝要求也較方棱鏡的安裝更加方便,更適用于工業(yè)上大批量使用。[0008] 可選的,相機(jī)與第一光路限定元件共線設(shè)置,且相機(jī)的光軸與狹縫對(duì)應(yīng);第一點(diǎn)光源設(shè)置在反光面的正上方。[0009] 將相機(jī)與第一光路限定元件共線設(shè)置,且使相機(jī)的光軸與狹縫對(duì)應(yīng),便于被待檢測(cè)硅片的側(cè)邊反射的光能夠沿直線穿過狹縫進(jìn)入相機(jī),能夠進(jìn)一步提高相機(jī)的成像效果,且使的檢測(cè)的光路調(diào)試更加簡(jiǎn)單;將第一點(diǎn)光源設(shè)置在反光面的正上方,使得第一點(diǎn)光源所發(fā)出的光能夠直接打在反光面上,無需進(jìn)行多次反射,光路更加簡(jiǎn)單,且易于安裝及調(diào)試。[0010] 可選的,第一光路限定元件還包括第一安裝座,第一安裝座呈直角三棱柱狀,反光面固定在第一安裝座的斜面上。[0011] 將第一安裝座設(shè)計(jì)呈直角三棱柱狀,一方面便于加工,一方面便于將反光面以一定角度固定在第一安裝座的斜面上。[0012] 可選的,反光面包括第一反光面和第二反光面,第一反光面和第二反光面對(duì)稱固定在狹縫的兩側(cè)。[0013] 采用第一反光面和第二反光面對(duì)第一電光源的光進(jìn)行反射,可以有效增加被反射到待檢測(cè)硅片的側(cè)邊上的光,進(jìn)而使得側(cè)邊能反射回來更多的光通過狹縫進(jìn)入到相機(jī)中,實(shí)現(xiàn)較佳的成像效果,進(jìn)而提高側(cè)邊檢測(cè)效果;此外,將第一反光面和第二反光面對(duì)稱固定在狹縫的兩側(cè),可以有效提高光源的利用率。[0014] 可選的,第一光路限定元件的內(nèi)腔為經(jīng)過黑化處理的內(nèi)腔,內(nèi)腔包括狹縫的內(nèi)壁和/或反光面的背面。[0015] 通過對(duì)第一光路限定元件的內(nèi)腔做黑化處理,能夠?qū)Σ糠诌M(jìn)入內(nèi)腔的光進(jìn)行吸收處理,避免光在內(nèi)腔內(nèi)發(fā)生不需要的反射折射,影響成像效果。[0016] 可選的,第一檢測(cè)單元和第二檢測(cè)單元還均包括第一倒角檢測(cè)組件和第二倒角檢測(cè)組件,第一倒角檢測(cè)組件和第二倒角檢測(cè)組件結(jié)構(gòu)相同,且相對(duì)側(cè)邊檢測(cè)組件對(duì)稱設(shè)置;[0017] 第一倒角檢測(cè)組件和第二倒角檢測(cè)組件均包括第二光路限定元件,第二光路限定元件包括第二安裝座、第三反光面、第四反光面和通道,通道設(shè)置在第二安裝座上,用于為待檢測(cè)硅片提供輸送通道,第三反光面和第四反光面分別固定設(shè)置在通道兩側(cè)。[0018] 通過設(shè)置倒角檢測(cè)組件,使得本實(shí)用新型的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置除檢測(cè)硅片的側(cè)邊外,還能夠同時(shí)檢測(cè)與側(cè)邊相連的倒角;采用具有第三反光面、第四反光面和通道的第二光路限定元件對(duì)待檢測(cè)硅片的倒角進(jìn)行檢測(cè)。[0019] 可選的,第一倒角檢測(cè)組件和第二倒角檢測(cè)組件還均包括第二點(diǎn)光源,第三反光面和第四反光面用于反射由第二點(diǎn)光源發(fā)出的光,并將光反射至待檢測(cè)硅片的倒角,光被待檢測(cè)硅片的倒角反射并穿過狹縫進(jìn)入相機(jī)。[0020] 設(shè)置第二點(diǎn)光源,為第三反光面和第四反光面提供光照,完成待檢測(cè)硅片的倒角成像,能夠獲得更好的成像效果。[0021] 可選的,第二安裝座呈直角三棱柱狀,第三反光面和第四反光面固定設(shè)置在第二安裝座的斜面上。[0022] 將第二安裝座設(shè)計(jì)呈直角三棱柱狀,一方面便于加工,一方面便于將第三反光面和第四反光面以一定角度固定在第二安裝座的斜面上。[0023] 可選的,通道為自第二安裝座的斜面水平向第二安裝座內(nèi)部延伸的盲槽或通槽。[0024] 自第二安裝座的斜面水平向第二安裝座內(nèi)部延伸的盲槽或通槽,提供在硅片檢測(cè)過程中,允許硅片側(cè)邊及倒角通過的通道,為硅片邊運(yùn)動(dòng)邊檢測(cè)提供必要條件。[0025] 可選的,第一檢測(cè)單元和第二檢測(cè)單元均可以朝向或遠(yuǎn)離待檢測(cè)硅片調(diào)節(jié)。[0026] 將第一檢測(cè)單元和第二檢測(cè)單元設(shè)計(jì)成均可以朝向或遠(yuǎn)離待檢測(cè)硅片調(diào)節(jié),一方面便于安裝調(diào)試,一方面便于兼容不同尺寸的硅片。[0027] 可選的,第一檢測(cè)單元和第二檢測(cè)單元分別對(duì)應(yīng)待檢測(cè)硅片的相互平行的兩個(gè)側(cè)邊設(shè)置,且沿側(cè)邊的延伸方向交錯(cuò)分布。[0028] 交錯(cuò)設(shè)置第一檢測(cè)單元和第二檢測(cè)單元,可以避免兩個(gè)檢測(cè)單元的相互干擾,提高檢測(cè)精度。[0029] 第二方面,本申請(qǐng)?zhí)岢隽艘环N硅片分選機(jī),包括如前述任意一項(xiàng)的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置和規(guī)整裝置,規(guī)整裝置位于硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置的前道,用于對(duì)進(jìn)入硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置的待檢測(cè)硅片進(jìn)行預(yù)規(guī)整。[0030] 在對(duì)硅片的側(cè)邊進(jìn)行檢測(cè)之前,采用規(guī)整裝置對(duì)硅片進(jìn)行預(yù)規(guī)整,使得硅片到達(dá)硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置的時(shí)候,保持一個(gè)較佳的位置狀態(tài),能夠進(jìn)一步提高側(cè)邊檢測(cè)的效果及效率,進(jìn)而提高硅片分選機(jī)的整體效率。附圖說明[0031] 圖1為硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置的一種實(shí)施方式示意圖;[0032] 圖2為第一檢測(cè)單元的第一倒角檢測(cè)組件的一種實(shí)施方式示意圖;[0033] 圖3為第一檢測(cè)單元的一種實(shí)施方式示意圖;[0034] 圖4為圖3的正視圖;[0035] 圖5為第一檢測(cè)單元的第一光路限定元件的一種實(shí)施方式示意圖;[0036] 圖6為第一檢測(cè)單元的第一倒角檢測(cè)組件的第二光路限定元件的一種實(shí)施方式示意圖;[0037] 圖7為第一檢測(cè)單元的第二倒角檢測(cè)組件的第二光路限定元件的一種實(shí)施方式示意圖;[0038] 圖8為硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置的另一種實(shí)施方式示意圖;[0039] 圖中:第一檢測(cè)單元1、第一點(diǎn)光源11、第一光路限定元件12、反光面121、第一反光面1211、第二反光面1222、狹縫122、第一安裝座123、相機(jī)13;[0040] 第一倒角檢測(cè)組件14、第二光路限定元件141、第二安裝座1411、第三反光面1412、第四反光面1413、通道1414、第二點(diǎn)光源142;[0041] 第二倒角檢測(cè)組件15、第二光路限定元件151、第二安裝座1511、第三反光面1512、第四反光面1513、通道1514、第二點(diǎn)光源152;[0042] 第二檢測(cè)單元2、第一點(diǎn)光源21、相機(jī)23、第一倒角檢測(cè)組件24、第二倒角檢測(cè)組件25;

[0043] 硅片100、第一側(cè)邊110、第二側(cè)邊120、第一連接板3、第二連接板4、調(diào)節(jié)軌道5。具體實(shí)施方式[0044] 為使本申請(qǐng)實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚,下面將結(jié)合本申請(qǐng)實(shí)施例中的附圖,對(duì)本申請(qǐng)中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。其中,所描述的實(shí)施例是本申請(qǐng)一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例。因此,以下對(duì)在附圖中提供的本申請(qǐng)的實(shí)施例的詳細(xì)描述并非旨在限制要求保護(hù)的本申請(qǐng)的范圍,而是僅僅表示本申請(qǐng)的選定實(shí)施例。[0045] 下文中將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例來詳細(xì)說明本申請(qǐng)。需要說明的是,在不沖突的情況下,本申請(qǐng)中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。[0046] 針對(duì)當(dāng)前側(cè)邊檢測(cè)采用方棱鏡影響成像效果的問題,第一方面,如圖1所示,本申請(qǐng)?zhí)岢隽艘环N硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,包括第一檢測(cè)單元1和第二檢測(cè)單元2,第一檢測(cè)單元1和第二檢測(cè)單元2結(jié)構(gòu)相同,分別用于檢測(cè)硅片100的相互平行的兩個(gè)側(cè)邊,即第一側(cè)邊110和第二側(cè)邊120,其中與第一側(cè)邊110相連的兩個(gè)倒角分別為第一倒角111和第二倒角112,與第二側(cè)邊120相連的兩個(gè)倒角分別為第一倒角121和第二倒角122。[0047] 第一檢測(cè)單元1和第二檢測(cè)單元2均包括側(cè)邊檢測(cè)組件,如圖1、圖4所示,第一檢測(cè)單元1的側(cè)邊檢測(cè)組件包括第一點(diǎn)光源11、第一光路限定元件12和相機(jī)13,第一光路限定元件12包括反光面121和狹縫122,反光面121用于反射由第一點(diǎn)光源11發(fā)出的光,并將光反射到待檢測(cè)硅片100的側(cè)邊,光被待檢測(cè)硅片100的側(cè)邊反射并穿過狹縫122進(jìn)入相機(jī)13。[0048] 同樣的,如圖1所示,第二檢測(cè)單元的側(cè)邊檢測(cè)組件也包括第一點(diǎn)光源21、第一光路限定元件和相機(jī)23,第一光路限定元件(圖1中未示出)包括反光面和狹縫,反光面用于反射由第一點(diǎn)光源發(fā)出的光,并將光反射到待檢測(cè)硅片100的側(cè)邊,光被待檢測(cè)硅片100的側(cè)邊反射并穿過狹縫進(jìn)入相機(jī)。[0049] 需要說明的是,本申請(qǐng)中的相機(jī)采用的是線掃相機(jī),以圖4中的第一檢測(cè)單元1為例說明,當(dāng)待檢測(cè)硅片100的第一側(cè)邊110進(jìn)入到邊緣檢測(cè)區(qū)域時(shí),第一點(diǎn)光源11發(fā)出的光會(huì)先打到第一光路限定元件12的反光面121上,反光面121將光反射到第一側(cè)邊110上,第一側(cè)邊110會(huì)將反光面121反射來的光再反射出去,并穿過狹縫122進(jìn)入相機(jī)13,由相機(jī)13完成對(duì)第一側(cè)邊110的圖像獲取。[0050] 同理,當(dāng)待檢測(cè)硅片100的第二側(cè)邊120進(jìn)入到第二檢測(cè)單元2的邊緣檢測(cè)區(qū)域時(shí),第二檢測(cè)單元2中的第一點(diǎn)光源21發(fā)出的光會(huì)先打到第一光路限定元件的反光面上,反光面將光反射到第二側(cè)邊120上,第二側(cè)邊120會(huì)將反光面反射來的光再反射出去,并穿過狹縫進(jìn)入相機(jī)23,由相機(jī)23完成對(duì)第二側(cè)邊120的圖像獲取。[0051] 通過采用第一光路限定元件的反光面反射第一電光源發(fā)出的光,并將光反射到待檢測(cè)硅片的側(cè)邊,采用第一光路限定元件的狹縫接收由待檢測(cè)硅片的側(cè)邊反射回來的光,使被待檢測(cè)硅片的側(cè)邊反射的光穿過狹縫進(jìn)入相機(jī),實(shí)現(xiàn)對(duì)硅片側(cè)邊的拍照檢測(cè),不僅克服了現(xiàn)有方棱鏡影響成像效果的問題,提高了成像效果;而且第一光路限定元件的安裝要求也較方棱鏡的安裝更加方便,更適用于工業(yè)上大批量使用。[0052] 如圖1和圖4所示,為第一檢測(cè)單元1中相機(jī)13、第一光路限定元件12與第一光源11的一種可選設(shè)置方式,相機(jī)13與第一光路限定元件12共線設(shè)置,且相機(jī)13的光軸與狹縫122對(duì)應(yīng);第一點(diǎn)光源11設(shè)置在反光面121的正上方。[0053] 對(duì)應(yīng)的,第二檢測(cè)單元2中相機(jī)23、第一光路限定元件與第一光源21的一種可選設(shè)置方式也與第一檢測(cè)單元1中的相同。[0054] 將相機(jī)與第一光路限定元件共線設(shè)置,且使相機(jī)的光軸與狹縫對(duì)應(yīng),便于被待檢測(cè)硅片的側(cè)邊反射的光能夠沿直線穿過狹縫進(jìn)入相機(jī),能夠進(jìn)一步提高相機(jī)的成像效果,且使的檢測(cè)的光路調(diào)試更加簡(jiǎn)單。[0055] 將第一點(diǎn)光源設(shè)置在反光面的正上方,使得第一點(diǎn)光源所發(fā)出的光能夠直接打在反光面上,無需進(jìn)行多次反射,光路更加簡(jiǎn)單,且易于安裝及調(diào)試。[0056] 可選的,如圖5所示,由于第二檢測(cè)單元2與第一檢測(cè)單元1的結(jié)構(gòu)相同,以第一檢測(cè)單元1中的第一光路限定元件12為例,第一光路限定元件12的一種實(shí)施方式中,還包括第一安裝座123,第一安裝座123呈直角三棱柱狀,反光面121固定在第一安裝座123的斜面上。將第一安裝座設(shè)計(jì)呈直角三棱柱狀,一方面便于加工,一方面便于將反光面以一定角度固定在第一安裝座的斜面上。

[0057] 如圖5所示,第一光路限定元件12還具有以下實(shí)施方式,反光面121包括第一反光面1211和第二反光面1212,第一反光面1211和第二反光面1212對(duì)稱固定在狹縫122的兩側(cè)。[0058] 采用第一反光面和第二反光面對(duì)第一點(diǎn)光源的光進(jìn)行反射,可以有效增加被反射到待檢測(cè)硅片的側(cè)邊上的光,進(jìn)而使得側(cè)邊能反射回來更多的光通過狹縫進(jìn)入到相機(jī)中,實(shí)現(xiàn)較佳的成像效果,進(jìn)而提高側(cè)邊檢測(cè)效果。[0059] 此外,將第一反光面和第二反光面對(duì)稱固定在狹縫的兩側(cè),可以有效提高光源的利用率。[0060] 可選的,第一光路限定元件的內(nèi)腔為經(jīng)過黑化處理的內(nèi)腔,內(nèi)腔可以為包括狹縫的內(nèi)壁、包括反光面的背面、包括狹縫的內(nèi)壁以及反光面的背面三種不同的情況,具體根據(jù)不同工藝要求選擇。[0061] 對(duì)于狹縫的內(nèi)壁主要是指狹縫在第一安裝座內(nèi)的所有內(nèi)表面位置。[0062] 具體的,黑化處理可以為對(duì)內(nèi)腔進(jìn)行渡黑色圖層、貼黑色吸光棉等可以使內(nèi)腔具有吸光作用的類似處理。[0063] 通過對(duì)第一光路限定元件的內(nèi)腔做黑化處理,能夠?qū)Σ糠诌M(jìn)入內(nèi)腔的光進(jìn)行吸收處理,避免光在內(nèi)腔內(nèi)發(fā)生不需要的反射折射,影響成像效果。[0064] 在硅片檢測(cè)檢測(cè)裝置的一種實(shí)施方式中,第一檢測(cè)單元1和第二檢測(cè)單元2還均包括第一倒角檢測(cè)組件和第二倒角檢測(cè)組件,第一倒角檢測(cè)組件和第二倒角檢測(cè)組件結(jié)構(gòu)相同,且相對(duì)側(cè)邊檢測(cè)組件對(duì)稱設(shè)置。[0065] 如圖1所示,第一檢測(cè)單元1的第一倒角檢測(cè)組件14和第二倒角檢測(cè)組件15結(jié)構(gòu)相同,且相對(duì)第一檢測(cè)單元1的側(cè)邊檢測(cè)組件對(duì)稱設(shè)置,分別用于檢測(cè)第一側(cè)邊110的第一倒角111和第二倒角112;[0066] 第二檢測(cè)單元2的第一倒角檢測(cè)組件24和第二倒角檢測(cè)組件25結(jié)構(gòu)也相同,且相對(duì)第二檢測(cè)單元2的側(cè)邊檢測(cè)組件對(duì)稱設(shè)置,分別用于檢測(cè)第二側(cè)邊120的第一倒角121和第二倒角122。[0067] 由于第一檢測(cè)單元1和第二檢測(cè)單元2的結(jié)構(gòu)相同,先以第一檢測(cè)單元1為例介紹第一倒角檢測(cè)組件和第二倒角檢測(cè)組件的一種實(shí)施方式:[0068] 第一倒角檢測(cè)組件14和第二倒角檢測(cè)組件15均包括第二光路限定元件,如圖1、2、6所示,第一倒角檢測(cè)組件14的第二光路限定元件141包括第二安裝座1411、第三反光面

1412、第四反光面1413和通道1414,通道1414設(shè)置在第二安裝座1411上,用于為待檢測(cè)硅片

100提供輸送通道,第三反光面1412和第四反光面1413分別固定設(shè)置在通道1414兩側(cè)。

[0069] 如圖3、7所示,第二倒角檢測(cè)組件15的第二光路限定元件151包括第二安裝座1511、第三反光面1512、第四反光面1513和通道1514,通道1514設(shè)置在第二安裝座1511上,用于為待檢測(cè)硅片100提供輸送通道,第三反光面1512和第四反光面1513分別固定設(shè)置在通道1514兩側(cè)。

[0070] 鑒于第二檢測(cè)單元2與第一檢測(cè)單元1的結(jié)構(gòu)相同,第二檢測(cè)單元2中的第一倒角檢測(cè)組件24和第二倒角檢測(cè)組件25也可以采用如圖2、3中一樣的結(jié)構(gòu),本申請(qǐng)不再贅述。[0071] 通過設(shè)置倒角檢測(cè)組件,使得本實(shí)用新型的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置除檢測(cè)硅片的側(cè)邊外,還能夠同時(shí)檢測(cè)與側(cè)邊相連的倒角;采用具有第三反光面、第四反光面和通道的第二光路限定元件對(duì)待檢測(cè)硅片的倒角進(jìn)行檢測(cè)。[0072] 可選的,第一倒角檢測(cè)組件和第二倒角檢測(cè)組件還均包括第二點(diǎn)光源,第三反光面和第四反光面用于反射由第二點(diǎn)光源發(fā)出的光,并將光反射至待檢測(cè)硅片的倒角,光被待檢測(cè)硅片的倒角反射并穿過狹縫進(jìn)入相機(jī)。[0073] 以第一檢測(cè)單元1為例,如圖2所示,第一倒角檢測(cè)組件14包括第二點(diǎn)光源142,第三反光面1412和第四反光面1413用于反射由第二點(diǎn)光源142發(fā)出的光,并將光反射至待檢測(cè)硅片100的倒角111,光被待檢測(cè)硅片的倒角反射并穿過狹縫進(jìn)入相機(jī)。[0074] 設(shè)置第二點(diǎn)光源,為第三反光面和第四反光面提供光照,完成待檢測(cè)硅片的倒角成像,能夠獲得更好的成像效果。[0075] 可選的,如圖6所示,第一檢測(cè)單元1的第一倒角檢測(cè)組件14的第二安裝座1411呈直角三棱柱狀,第三反光面1412和第四反光面1413固定設(shè)置在第二安裝座1411的斜面上。[0076] 如圖7所示,第一檢測(cè)單元1的第二倒角檢測(cè)組件15第二安裝座1511呈直角三棱柱狀,第三反光面1512和第四反光面1513固定設(shè)置在第二安裝座1511的斜面上。[0077] 當(dāng)然對(duì)于第二檢測(cè)單元2中的第一倒角檢測(cè)組件24和第二倒角檢測(cè)組件25的一種可選實(shí)施方式也是可以采用同圖6、7所示的一樣的結(jié)構(gòu)的。[0078] 將第二安裝座設(shè)計(jì)呈直角三棱柱狀,一方面便于加工,一方面便于將第三反光面和第四反光面以一定角度固定在第二安裝座的斜面上。[0079] 可選的,如圖6所示,第一檢測(cè)單元1的第一倒角檢測(cè)組件14的第二光路限定元件中,通道1414為自第二安裝座的斜面水平向第二安裝座1411內(nèi)部延伸的盲槽或通槽。[0080] 如圖7所示,第一檢測(cè)單元1的第二倒角檢測(cè)組件15的第二光路限定元件中,通道1514為自第二安裝座的斜面水平向第二安裝座1511內(nèi)部延伸的盲槽或通槽。

[0081] 當(dāng)然對(duì)于第二檢測(cè)單元2的相關(guān)第一倒角檢測(cè)組件24和第二倒角檢測(cè)組件25也可以采用同圖6、7所示的一樣的結(jié)構(gòu)。[0082] 自第二安裝座的斜面水平向第二安裝座內(nèi)部延伸的盲槽或通槽,提供在硅片檢測(cè)過程中,允許硅片側(cè)邊及倒角通過的通道,為硅片邊運(yùn)動(dòng)邊檢測(cè)提供必要條件。[0083] 可選的,第一檢測(cè)單元1和第二檢測(cè)單元2均可以朝向或遠(yuǎn)離待檢測(cè)硅片調(diào)節(jié)。[0084] 具體的,第一檢測(cè)單元1固定設(shè)置在第一連接板3上,第二檢測(cè)單元2固定設(shè)置在第二連接板4上,第一連接板3和第二連接板4滑動(dòng)連接在調(diào)節(jié)軌道5上。對(duì)于如何實(shí)現(xiàn)第一連接板3和第二連接板4的滑動(dòng),可以采用電機(jī)、氣缸、電缸、手動(dòng)調(diào)節(jié)等任一種方式,本申請(qǐng)不做具體限定。[0085] 將第一檢測(cè)單元1和第二檢測(cè)單元2設(shè)計(jì)成均可以朝向或遠(yuǎn)離待檢測(cè)硅片調(diào)節(jié),一方面便于安裝調(diào)試,一方面便于兼容不同尺寸的硅片。[0086] 為了避免第一檢測(cè)單元1和第二檢測(cè)單元2各自的光源之間產(chǎn)生干擾,在一種可選的實(shí)施方式中,如圖8所示,可以將第一檢測(cè)單元1和第二檢測(cè)單元2分別對(duì)應(yīng)待檢測(cè)硅片的相互平行的兩個(gè)側(cè)邊(即圖中相互平行的第一側(cè)邊110和第二側(cè)邊120)設(shè)置,且沿側(cè)邊的延伸方向(即圖中的箭頭所示意的直線上的方向)交錯(cuò)分布。[0087] 第二方面,本申請(qǐng)?zhí)岢隽艘环N硅片分選機(jī),包括如前述任意一項(xiàng)的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置和規(guī)整裝置,規(guī)整裝置位于硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置的前道,用于對(duì)進(jìn)入硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置的待檢測(cè)硅片進(jìn)行預(yù)規(guī)整。[0088] 在對(duì)硅片的側(cè)邊進(jìn)行檢測(cè)之前,采用規(guī)整裝置對(duì)硅片進(jìn)行預(yù)規(guī)整,使得硅片到達(dá)硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置的時(shí)候,保持一個(gè)較佳的位置狀態(tài),能夠進(jìn)一步提高側(cè)邊檢測(cè)的效果及效率,進(jìn)而提高硅片分選機(jī)的整體效率。[0089] 以上示意性地對(duì)本申請(qǐng)創(chuàng)造及其實(shí)施方式進(jìn)行了描述,該描述沒有限制性,附圖中所示的也只是本申請(qǐng)創(chuàng)造的實(shí)施方式之一,實(shí)際的結(jié)構(gòu)并不局限于此。所以,如果本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員受其啟示,在不脫離本創(chuàng)造宗旨的情況下,不經(jīng)創(chuàng)造性的設(shè)計(jì)出與該技術(shù)方案相似的結(jié)構(gòu)方式及實(shí)施例,均應(yīng)屬于本專利的保護(hù)范圍。



聲明:
“硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置及硅片分選機(jī)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
分享 0
         
舉報(bào) 0
收藏 0
反對(duì) 0
點(diǎn)贊 0
標(biāo)簽:
分選機(jī)
全國(guó)熱門有色金屬技術(shù)推薦
展開更多 +

 

中冶有色技術(shù)平臺(tái)微信公眾號(hào)
了解更多信息請(qǐng)您掃碼關(guān)注官方微信
中冶有色技術(shù)平臺(tái)微信公眾號(hào)中冶有色技術(shù)平臺(tái)

最新更新技術(shù)

報(bào)名參會(huì)
更多+

報(bào)告下載

2024退役新能源器件循環(huán)利用技術(shù)交流會(huì)
推廣

熱門技術(shù)
更多+

衡水宏運(yùn)壓濾機(jī)有限公司
宣傳
環(huán)磨科技控股(集團(tuán))有限公司
宣傳

發(fā)布

在線客服

公眾號(hào)

電話

頂部
咨詢電話:
010-88793500-807
專利人/作者信息登記