本實(shí)用新型公開了一種清洗模塊,用于反應(yīng)杯架的清洗,包括有清洗針組件;在所述清洗針組件下方設(shè)置有磁鐵組件;所述磁鐵組件包括有第一清洗磁鐵組、第二清洗磁鐵組和第三清洗磁鐵組,其中,所述第一、第二清洗磁鐵組的N與S磁極交替設(shè)置,所述第二清洗磁鐵組設(shè)置在與反應(yīng)杯位下部對應(yīng)的位置。利用磁鐵組件中的磁鐵將反應(yīng)杯位中的磁珠免疫復(fù)合物吸附后,進(jìn)行清洗;N與S磁極交替設(shè)置,使清洗更徹底;第二清洗磁鐵設(shè)置在底面(與反應(yīng)杯位下部對應(yīng)的位置),使磁珠免疫復(fù)合物吸附在反應(yīng)杯位底部,便于后續(xù)化學(xué)發(fā)光檢測。
聲明:
“清洗模塊” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)