本實用新型公開了一種薄膜制備設(shè)備,包括:將注入反應(yīng)液進(jìn)行化學(xué)沉積反應(yīng)的反應(yīng)槽(10);設(shè)置在反應(yīng)槽(10)外部的循環(huán)裝置(20),循環(huán)裝置(20)的一端與反應(yīng)槽(10)底部連通,另一端與反應(yīng)槽(10)上部連通,循環(huán)裝置(20)將經(jīng)反應(yīng)槽(10)上部溢出的反應(yīng)液輸送至外部加熱器加熱,然后經(jīng)反應(yīng)槽(10)底部的注液口注入該反應(yīng)液,還包括:至少一個加熱裝置(30),設(shè)置在反應(yīng)槽(10)下部或底部外側(cè),用于非接觸地對反應(yīng)槽(10)內(nèi)的反應(yīng)液加熱;測溫儀(40),設(shè)置在反應(yīng)槽(10)上部出口附近,用于檢測反應(yīng)槽(10)溢流反應(yīng)液的溫度。采用本實施方案,有效地解決加熱時延問題,并使反應(yīng)槽(10)內(nèi)反應(yīng)液迅速升溫的同時溫度均勻分布。
聲明:
“薄膜制備設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)