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一種芯片制程中環(huán)境友好的定影方法

821   編輯：管理員   來源：中冶有色技術網  
2023-03-19 06:13:02
本發(fā)明提供了一種芯片制程中環(huán)境友好的定影方法，包括：顯影去除硅片上未曝光的光刻膠，定影除去上述工序中殘留顯影液及少量雜質。所述顯影液為芯片行業(yè)通用顯影液，即碳氫溶劑，顯影溫度25℃，顯影時間一分鐘，定影液為純水，或純水中復配少許醇類溶劑、醇醚類溶劑、醇醚酯溶劑、酮類溶劑及有一定揮發(fā)性的表面活性劑、非離子表面活性劑。該發(fā)明拋棄了目前行業(yè)中通用的常規(guī)有機定影液技術，而采用水性物質作為定影液，不但大大降低了常規(guī)定影液的采購成本及由此產生的危險廢棄物處理成本，而且減少了芯片行業(yè)VOC的排放量，為環(huán)境友好、環(huán)?？沙掷m(xù)發(fā)展做出了一定貢獻，具有較高的經濟效益和社會效益。
聲明：
“一種芯片制程中環(huán)境友好的定影方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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