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晶圓最大加工損傷的精準(zhǔn)定位方法

1002   編輯：管理員   來(lái)源：中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:58:57
本發(fā)明公開(kāi)了一種晶圓最大加工損傷的精準(zhǔn)定位方法，在晶圓的非加工面沉積用于輔助測(cè)量的薄膜層，非加工面與加工面相互平行且呈背向設(shè)置，非加工面為光滑無(wú)損表面；再在晶圓的加工面進(jìn)行至少一道減薄加工操作，并在每一道減薄加工操作之前后，將橢偏儀的入射光以設(shè)定的入射角掃描非加工面上的薄膜層，入射光經(jīng)薄膜層和晶圓反射或透射后出射的橢偏信號(hào)經(jīng)橢偏儀探測(cè)器接收，一旦在晶圓的輔助測(cè)量薄膜層上探測(cè)到的橢偏信號(hào)出現(xiàn)變化，則該出現(xiàn)橢偏信號(hào)變化對(duì)應(yīng)的位置即為最大加工損傷位置。它具有如下優(yōu)點(diǎn)：實(shí)現(xiàn)全局、無(wú)損、快速精準(zhǔn)定位晶圓上的最大加工損傷位置，實(shí)時(shí)跟蹤晶圓的加工狀態(tài)，對(duì)實(shí)際晶圓的加工工藝的選擇與優(yōu)化具有重要的指導(dǎo)意義。
聲明：
“晶圓最大加工損傷的精準(zhǔn)定位方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究，如用于商業(yè)用途，請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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