CVD氣相沉積爐 2431     

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SL-CVD是一款PECVD 管式爐系統(tǒng)。該系統(tǒng)包含等離子射頻電源，80mm OD1500mm L的管式爐，通道質(zhì)量流量供氣系統(tǒng)和機械泵機組，可用于生長納米或石墨烯材料。

回轉(zhuǎn)爐 1898     

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生產(chǎn)方式：連續(xù)式；爐管材質(zhì)：各類不銹鋼、鎳基高溫合金、鈦材、石墨、石英、碳化硅等

銅漿料燒結爐 1582     

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該產(chǎn)品專業(yè)用于壓敏電阻、電容、BME-MLCC端電極、電子元件銅電極等類似產(chǎn)品的高溫燒結、熱處理。

1400℃雙溫區(qū)管式爐 2446     

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1400℃雙溫區(qū)精密真空管式爐采用智能化程序溫控系統(tǒng)，可控硅控制控溫精度高；高真空級法蘭密封，結合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣 氛；以優(yōu)質(zhì)硅碳棒為加熱元件，采用智能化控溫系統(tǒng)，可控硅控制控溫精度高；爐膛采用日本技術真空吸附成型的優(yōu)質(zhì) 1600 型氧化鋁多晶體纖維無機 材料拼搭結構，長期使用不斷裂、垮塌；爐體為雙層爐殼，配有風冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫度；內(nèi)置兩個溫區(qū)，可營造不同的溫度梯度。

1400℃三溫區(qū)管式爐 2242     

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1400℃三溫區(qū)真空管式爐采用智能化程序溫控系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；高真空級法蘭密封，結合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛；以優(yōu)質(zhì)硅碳棒為加熱元件，采用智能化控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；爐膛采用日本技術真空吸附成型的優(yōu)質(zhì) 1600 型氧化鋁多晶體纖維無機材料拼搭結構，長期使用不斷裂、垮塌；爐體為雙層爐殼，配有風冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫度；內(nèi)置三個溫區(qū)，可營造不同的溫度梯度。 ?

立式碳管爐 1246     

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爐爐體為立式爐殼,其內(nèi)、外筒及法蘭均采用304不銹鋼做成，內(nèi)外筒與上下法蘭焊成一個整體，兩層之間形成夾套可以通水冷卻，可將傳到爐殼內(nèi)壁上的熱量帶走。爐體中間開有抽氣孔、熱電偶測溫孔及觀察孔等。

回轉(zhuǎn)爐易拉寶 1627     

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生產(chǎn)方式：連續(xù)式；爐管材質(zhì)：各類不銹鋼、鎳基高溫合金、鈦材、石墨、石英、碳化硅等

厚膜燒結爐 2147     

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該產(chǎn)品主要用于厚膜網(wǎng)絡、厚膜晶片電阻、加熱器、LTCC后燒、元器件、片式元器件燒銀、LED等行業(yè)的高溫燒結和熱處理。獨特的氣氛系統(tǒng)設計，尤其適用于高精度片式電阻的燒結。

熔封爐 1671     

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該產(chǎn)品專業(yè)用于金屬管殼、電連接器、密封端子、鋰電池密封蓋、TO封裝等產(chǎn)品的熱處理工藝。

DBC燒結爐 1398     

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該產(chǎn)品專業(yè)用于功率半導體器件，如IGBT模塊、GTR模塊；功率控制線路及新式功率結構單元；固態(tài)繼電器及高頻開關模塊電源；變頻器交流無觸電開關；汽車電子、航空航天軍事技術等方面的結構單元的高溫熱處理。

玻珠排蠟爐 1315     

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該產(chǎn)品主要用于玻璃絕緣子排蠟?；㈦娮釉姌O、光伏薄膜電池等類似產(chǎn)品的高溫燒結、熱處理工藝。

烘干燒結一體爐 1518     

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設備主要用于厚膜產(chǎn)品的高溫燒結，包括厚膜電阻、介質(zhì)、導體的空氣氣氛燒成，電子元器件端頭燒銀等，也可用于其它產(chǎn)品的中溫熱處理。

烘干爐 1299     

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該產(chǎn)品專業(yè)用于厚膜、片式元件、太陽能、功能陶瓷等行業(yè)的電子材料的烘干和排膠，使用紅外加熱或熱風形式去除有機溶劑和水分。

推板爐 1312     

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該產(chǎn)品專業(yè)用于氧化鋯材料、壓電、壓敏、PTC、NTC、貼片天線、濾波器、硅、納米、電子元器件的排膠、預燒、燒結、退火等熱處理工藝。

靜態(tài)爐 967     

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專業(yè)用于磁性材料、微波鐵氧體、氧化鋯、先進功能陶瓷、功率元件、HTCC等產(chǎn)品的燒結。