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> 單層氮化硼薄膜（HBN）SiO2/Si基底

單層氮化硼薄膜（HBN）SiO2/Si基底

單層氮化硼薄膜（HBN）SiO2/Si基底

870
規(guī)格/型號(hào)：102674
品牌：先豐納米
應(yīng)用領(lǐng)域：其它材料
產(chǎn)地：江蘇 - 南京
廠家/供應(yīng)商：江蘇先豐納米材料科技有限公司
咨詢(xún)電話(huà):：暫無(wú)（請(qǐng)說(shuō)明信息源自“中冶有色技術(shù)網(wǎng)”）
更新時(shí)間：2024-05-21
級(jí)別：待認(rèn)證

單層氮化硼薄膜（HBN）SiO2/Si基底說(shuō)明介紹



貨號(hào)CAS號(hào)編號(hào)包裝參數(shù)
1026747440-42-8XF2391片1英寸x1英寸，SiO2/Si基底
1026757440-42-8XF2391片1英寸x2英寸，SiO2/Si基底
1026767440-42-8XF2391片2英寸x2英寸，SiO2/Si基底
產(chǎn)品名稱(chēng)

中文名稱(chēng)：?jiǎn)螌拥鸨∧ぃ℉BN）

英文名稱(chēng)：Monolayer boron nitridefilm（HBN）

性質(zhì)

覆蓋率：100%

基底：SiO2/Si

晶粒尺寸：>4 um

氧化層：300 nm硅：500um

應(yīng)用

HBN薄膜可被用作金屬絕緣金屬結(jié)構(gòu)的超薄間隔層，以及電子的隧道阻擋層，使其具有廣泛的應(yīng)用，例如納米電容器、場(chǎng)效應(yīng)隧道晶體管。作為單分子膜還可被用作介質(zhì)或基片。

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